全自动6/8英寸晶圆涂胶显影机

适用于半导体品圆切割后清洗，去除表面有机污染物、颗粒、金属污染物以及自然/化学氧化物。

·PLC系统+触摸屏人机界面控制

·利用超声波配合清洗剂进行清洗、漂洗

·内槽可选PTFE/PVDF/SUS304/石英等材质

·采用RT-120°C热风循环干燥，FFU高效空气过滤

·配置多槽连体抛动机构、药波溢流过滤循环系统

·隔膜泵抽取供液，自然重力排液(槽底特殊设计)

·预留通信接口(开关控制权限)

工艺:显影、刻蚀、超声波清洗/漂洗、IPAT燥\马兰戈尼干燥